ASML ผู้ผลิตเครื่องจักรผลิตชิปรายใหญ่ของเนเธอร์แลนด์ เตรียมขยายกำลังการผลิตเครื่อง Extreme Ultraviolet (EUV) lithography เป็นอย่างน้อย 60 เครื่องในปีนี้ เพิ่มขึ้น 36% จากปี 2025 เพื่อรองรับความต้องการที่เพิ่มขึ้นจากการลงทุนในโครงสร้างพื้นฐาน AI ทั่วโลก บริษัทกำลังเพิ่มพื้นที่ cleanroom ในสหรัฐฯ เยอรมนี และเกาหลีใต้ รวมถึงวางแผนก่อสร้างแคมปัสใหม่ใกล้สำนักงานใหญ่ในเนเธอร์แลนด์

ASML ยังคงเผชิญกับความท้าทายด้านแรงงานและห่วงโซ่อุปทาน เนื่องจากเครื่อง EUV แต่ละเครื่องใช้เวลาประกอบหลายเดือนและต้องพึ่งพาชิ้นส่วนจากซัพพลายเออร์จำนวนมาก บริษัทตั้งงบลงทุนประมาณ 2.2 พันล้านดอลลาร์ในปีนี้สำหรับทรัพย์สิน อุปกรณ์ และโครงสร้างพื้นฐาน พร้อมเร่งฝึกอบรมวิศวกร ขณะที่เครื่อง EUV รุ่นใหม่ high-NA ยังมีความไม่แน่นอนด้านการนำไปใช้เนื่องจากต้นทุนสูง ทำให้ ASML หันมาเสนออัปเกรดเครื่องรุ่นปัจจุบันเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพ

ที่มา: TechSpot

คำศัพท์เทคนิคที่น่าสนใจ

• EUV (Extreme Ultraviolet) – เทคโนโลยีการพิมพ์ลายวงจรบนชิปด้วยแสงอัลตราไวโอเลตช่วงสั้น
• Lithography – กระบวนการพิมพ์ลายวงจรบนแผ่นซิลิคอน
• Cleanroom – ห้องสะอาดที่ควบคุมฝุ่นและสิ่งปนเปื้อนสำหรับการผลิตชิป
• High-NA EUV – เครื่อง EUV รุ่นใหม่ที่มีความละเอียดสูงขึ้นแต่ต้นทุนสูง